PACVD (PECVD)

Dans le procédé de dépôt chimique en phase vapeur (Chemical Vapour Deposition CVD), une couche solide est formée sur la surface d'un substrat par des molécules gazeuses réagissant avec la chaleur du substrat. Dans la CVD assistée par plasma (PACVD), le rayonnement UV provenant des molécules du gaz de traitement génère des radicaux qui réagissent à la surface même sans l'influence de la température.
À l'encontre du procédé CVD, le procédé PACVD peut donc également être utilisé sur des substrats à faible résistance thermique. Au lieu de PACVD, le terme PECVD (Plasma Enhanced CVD) est également utilisé.

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