La deposizione viene effettuata per polimerizzazione mediante un processo di rivestimento sottovuoto, noto come deposizione chimica in fase di vapore (Chemical Vapour Deposition, CVD). Il "dimero" (solido [2,2]-p-ciclofano), presente in forma di polvere, viene prima sublimato nell'evaporatore.

La decomposizione termica del "gas dimero", relativamente inerte, avviene per mezzo di un tubo per pirolisi a circa 650 °C e dà luogo alla formazione di monomeri altamente reattivi. La pressione del processo dipende dal dimero e dal tipo di impianto utilizzato ed è di circa 0,02 - 0,1 mbar. Tramite diffusione, i monomeri reattivi raggiungono la successiva camera da vuoto, in cui il materiale di rivestimento è collocato su un telaio rotante.

I monomeri reattivi polimerizzano preferibilmente a strati sottili di poli(para-xylylene) o parylene su superfici fredde. Poiché non tutti i monomeri polimerizzano nella camera, occorre evitare il rivestimento successivo della pompa per vuoto. Per questa ragione è necessario integrare nel sistema una trappola del freddo. La trappola del freddo  viene semplicemente riempita con azoto liquido durante il periodo di trattamento, per cui i monomeri residui all’interno della trappola del freddo polimerizzano, garantendo la funzionalità della pompa.