Glossary of surface technology

Negativlack

Fotoresist, der in alkalischen Säuren (Entwickler) gut löslich ist. Bei Belichtung vernetzen die Moleküle und die Löslichkeit nimmt stark ab. Nach einer Belichtung und anschließenden Entwicklung werden daher nur die unbelichteten Bereiche entfernt, die belichteten bleiben stabil.  

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