
离子束蚀刻
离子束蚀刻(英语:Ion Beam Etching)是一种干式蚀刻方法。不同于离子蚀刻,反应性离子将在一个独立的离子源中提供,并通过加速栅格提取至蚀刻室中。
München | Germany
10. - 13.11.2026
B2展馆 412展位
Bremen | Germany
17. - 19.11.2026
7展馆 W27展位

离子束蚀刻(英语:Ion Beam Etching)是一种干式蚀刻方法。不同于离子蚀刻,反应性离子将在一个独立的离子源中提供,并通过加速栅格提取至蚀刻室中。