Physical Vapour Deposition (PVD)

химического метода осаждения из газовой фазы (Chemical Vapour Deposition CVD) обходится без химических реакций. Часто применяется для нанесения на металлы слоев твердых материалов. Напыляемый материал в большинстве случаев подвергается температурному испарению. Также напыляемый материал может быть переведен в газовую фазу путем ионно-плазменного распыления в плазме низкого давления . В этом процессе мишень, т.е. напыляемый материал, бомбардируется ионами, разрывающими атомы мишени.