плазма низкого давленияПлазменная система Tetra 30
Плазменная установка с индивидуальной настройкой для промышленной обработки поверхностей
Благодаря объёму камеры 28 - 57 литров установка Tetra 30 идеально подходит для плазменной очистки, активации поверхностей, плазменного травления и плазменного нанесения покрытий на крупногабаритные детали, а также для производства небольших серий. Модульная конструкция мощной установки Tetra позволяет использовать её в научных исследованиях, разработках и промышленности.
Сделать запрос
Высокопроизводительная модульная концепция оборудования
Благодаря объему камеры 28 - 57 литров можно эффективно обрабатывать как отдельные заготовки, так и небольшие серии. Оборудование такого размера изготавливается исключительно в виде прочной напольной системы и обеспечивает оптимальные условия для промышленного применения. Модульная конструкция позволяет индивидуально конфигурировать установку с учетом ваших технологических процессов, материалов и требований к автоматизации.
В зависимости от области применения доступны различные вакуумные камеры, мощности генераторов и варианты управления. Таким образом создается плазменная система, точно адаптированная к вашим требованиям и предусматривающая возможность будущего расширения.
Система Tetra 30 подходит для множества процессов низконапорной плазменной технологии, в том числе для ультраточной очистки, активации поверхности, плазменного травления и плазменного нанесения покрытий. Благодаря этому поверхности оптимально подготавливаются для последующих процессов склеивания, печати, окраски или нанесения покрытий.
Очистка
Установка плазма низкого давления Tetra 30 предлагает решения для сверхточной очистки любых поверхностей, любых материалов и любой последующей обработки. Плазменная очистка удаляет все органические остатки, не подвергая деталь химическому или термическому воздействию.
Дополнительная информация
Активация
Условием для образования связей при нанесении лака, склеивании, печати или склеивании является хорошая смачиваемость поверхности. Плазменная активация, осуществляемая установкой плазма низкого давления Tetra 30, создает полярные участки связи и повышает поверхностную энергию.
Дополнительная информация
Покрытие
Установка плазма низкого давления Tetra 30 также может изменять свойства поверхностей с помощью нанесения покрытий. В процессе плазменного нанесения покрытий можно наносить гидрофобные, гидрофильные, защитные или изолирующие слои любого типа.
Дополнительная информация
Травление
Плазменная технология установки плазма низкого давления Tetra 30 позволяет осуществлять анизотропное и изотропное травление. В результате на поверхности образуются наноструктуры, способствующие увеличению их площади и улучшению адгезии.
Дополнительная информация
28 - 57 л камера
Плазменная установка Tetra 30 оснащена камерой объемом 28 - 57 л, что оптимально подходит для обработки крупных промышленных деталей. Помимо стандартного выбора камеры из алюминия или нержавеющей стали, для применений, требующих высокой степени чистоты, доступны камеры из боросиликатного или кварцевого стекла. Они отличаются химической стойкостью, которая гарантирует высокую чистоту технологического процесса. Для промышленности доступны камеры из нержавеющей стали или алюминия, которые обеспечивают особо безопасные и стабильные промышленные процессы.
Индустрия 4.0
Чтобы соответствовать растущим требованиям «Промышленности 4.0», компания Diener electronic предлагает плазменную установку Tetra 30 в опциональной комплектации с автоматической дверью. Это позволяет быстро интегрировать плазменную систему Tetra 30 в систему MES и оптимально включить её в автоматизированные производственные линии. Возможность автоматической загрузки и разгрузки сокращает количество ручных операций, тем самым повышая надежность процесса и обеспечивая его воспроизводимость. Благодаря автоматизации плазменная установка Tetra 30 гарантирует эффективный контроль качества.
Электрод
С развитием технологий растут и требования. С компанией «Diener electronic» предприятия получают высокую надежность инвестиций, поскольку Tetra 30 может развиваться в соответствии с будущими требованиями. Благодаря гибкой модульной системе выбор электродов — одно- или многоярусных — определяется в зависимости от конкретного применения. Для крупных, сложных деталей, занимающих много места в камере, рекомендуется использовать электрод, обеспечивающий равномерную обработку. Чтобы гарантировать равномерную обработку в любом случае применения, для множества мелких деталей, расположенных на нескольких ярусах, устанавливаются многоярусные электроды или поворотный барабанный электрод.
Управление
Для промышленности оптимальным решением является плазменная установка Tetra 30 с элементом управления в виде упрощенной недорогой системы управления на базе PC (Low Cost или Basic) с предустановленными процессами. В сложных производственных условиях можно выбрать систему управления на базе полнофункционального PC. Она обеспечивает дистанционную диагностику, сетевые подключения, а также архивирование процессов и списков аварийных сигналов. Эффективное и экономичное производство основано на прозрачности процессов и их отслеживаемости.
Технические данные
Габариты корпуса
Напольный
Блок управления
Low Cost PC (Windows CE)
Basic PC (Windows CE)
Full PC (Windows 11 IoT Enterprise)
Вакуумная камера
Нержавеющая сталь, Распашная дверца
Ш 305 мм x В 305 мм x Г 370 мм; объем примерно 34 литров
Нержавеющая сталь, Распашная дверца
Ш 305 мм x В 300 мм x Г 625 мм; объем примерно 57 литров
алюминий, Распашная дверца
Ш 305 мм x В 300 мм x Г 370 мм; объем примерно 34 литров
Опционально: Глубина может быть увеличена до 3000 мм
алюминий, Распашная дверца
Ш 305 мм x В 300 мм x Г 625 мм; объем примерно 57 литров
Опционально: Глубина может быть увеличена до 3000 мм
Кварцевое стекло, Распашная дверца
⌀ 300 мм x
Г 400 мм; объем примерно 28 литров
Боросиликатное стекло, Распашная дверца
⌀ 300 мм x
Г 400 мм; объем примерно 28 литров
генератор
40 кГц | Выходная мощность 0 - 1500 W
80 кГц | Выходная мощность 0 - 1000 W
80 кГц | Выходная мощность 0 - 3000 W
13,56 МГц | Выходная мощность 0 - 300 W
2,45 ГГц | Выходная мощность 0 - 850 W
Подача газа
Игольчатый клапан
MFC (Mass flow controller)
Электрод
однослойный электрод
Многоярусный электрод
Электрод RIE
Измерение давления
Датчик Пирани
Манометр производительности
Источник питания
400 V | 16 - 125 A
Возможны технические изменения.
Получить индивидуальное предложение для плазма низкого давления Tetra 30?
Сделать запросДругие интересные продукты
FAQ Часто задаваемые вопросы
Чем отличаются ваши устройства, установки и системы для плазменной обработки поверхностей в атмосферных условиях и при низком давлении от аналогов других производителей на рынке?
Оборудование и установки для плазменной обработки поверхностей компании «Diener electronic» отличаются от аналогов на рынке следующим:
- более чем 20-летним опытом работы в области AD и 30-летним опытом в области ND в различных производственных условиях у наших клиентов благодаря надёжности технологии
- несколько тысяч уже установленных установок
- компактной конструкцией
- в моделях с подключением к PC доступны современные протоколы связи, такие как Profinet, EtherCat и т. д.
Видно ли что-нибудь через смотровое стекло?
Да, в зависимости от материала возможно наблюдение за происходящим в вакуумной камере.
Какие поверхности можно активировать с помощью плазменной установки Tetra 30?
С помощью плазменной установки Tetra 30 компании Diener electronic можно проводить активацию следующих поверхностей: пластмасс, металлов, стекла, керамики и текстиля.
Требуются ли фильтры для вытяжного воздуха для Tetra 30?
Да, все установки обязательно должны быть подключены к эффективной системе вытяжки, независимо от того, какой газ используется. При работе образуются оксиды азота, выхлопные газы, мелкий масляный туман (при использовании масляных насосов) и т. д., которые нельзя вдыхать; кроме того, эти газы часто имеют кислую реакцию, что способствует коррозии окружающих деталей, машин и оборудования.
Какова типичная температура процесса в вакуумной камере Tetra 30?
В Tetra 30 компании Diener electronic температура обычно колеблется от комнатной до примерно 80 °C — в зависимости от компонента, типа камеры, продолжительности процесса и объема загрузки. По запросу компании Diener electronic можно обеспечить более высокие температуры с помощью нагревательных элементов.
Какой диапазон давления обычно наблюдается в вакуумной камере Tetra 30?
Типичный диапазон давления Tetra 30 составляет 0,1–1,0 мбар (регулируемый), в зависимости от заданного процесса низкодавления в плазме.
Какие газы можно использовать в Tetra 30?
В данной Tetra 30, а также в целом в низконапорной плазме могут использоваться следующие газы: O2, N2, Ar, атмосферный воздух, CO2, пары H2O и формирующий газ
Существует ли альтернатива водороду в системе Tetra 30?
По запросу в компании «Diener electronic» для системы Tetra 30 можно рассмотреть возможность использования генератора водорода или водяного пара в качестве альтернативы водороду.
Может ли установка Tetra 30 обрабатывать магнитные детали?
Магнитные компоненты также можно успешно обрабатывать в вакуумной камере Tetra 30 компании Diener electronic.
Можно ли обрабатывать с помощью Tetra 30 компоненты, чувствительные к температуре?
Да, поскольку речь идет о холодной плазме, установки низкодавления Tetra 30 компании Diener electronic подходят для температурно-чувствительных компонентов.
Какие варианты подключения к программному управлению доступны для системы Tetra 30?
Благодаря полному PC-управлению плазменная система Tetra 30 от компании Diener electronic поддерживает следующие варианты подключения:
- управляющие системы верхнего уровня, например, через Profinet
- система MES, например, через OPC UA
- подключение к базе данных через ODBC
