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在常压等离子体技术中，气体在常压下借助高电压被激发，并点燃等离子体。借助压缩空气从喷嘴中将等离子体喷出。共分为两种等离子效应：通过等离子射流中所含的活性粒子进行活化和超精细清洗。此外，借助经压缩空气加速的活性射流还可以去除表面上散落的、附着性颗粒。通过改变诸如处理速度和至基材表面的距离之类的工艺参数，可以对处理结果造成不同程度的影响。
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