Плазменная химия

химическая реакция связана с довольно значительным повышением температуры. Это представляет проблему, если химическая реакция протекает на термочувствительном субстрате. В плазменной технике низкого давления возбуждение осуществляется без повышения температуры или с очень незначительным нагревом. При ВЧ-возбуждении имеющиеся ионы, радикалы и возбужденные атомы остаются холодными (см. также ⇒ Холодная плазма), однако высоко активны, т.е. в спонтанных реакциях с другими частицами образуют новые соединения. Таким образом, крупное преимущество плазменной химии заключается в возможности обработки термостойких субстратов.