Chimie du plasma

Seules quelques réactions chimiques se produisent spontanément, c'est-à-dire simplement en mélangeant les partenaires de la réaction. Une alimentation en énergie est fréquemment plus nécessaire en tant qu'énergie d'activation, même si la réaction est « exothermique », c'est-à-dire si de l'énergie est libérée pendant la réaction dans son ensemble. L'énergie est généralement alimentée par augmentation de la température. Dans tous les cas susmentionnés, la réaction chimique est donc associée la plupart du temps à une augmentation considérable de la température. Ceci s'avère problématique si la réaction chimique doit s'effectuer sur un substrat sensible à la température. Dans le plasma basse pression, l'excitation s'effectue sans augmentation de température ou avec une augmentation très faible de la température. Lors de l'excitation HF, les ions, radicaux et atomes excités restent en majorité froids (voir également ⇒ plasma froid), mais ils sont fortement réactifs, c'est-à-dire qu'ils réagissent spontanément avec d'autres particules pour former de nouvelles liaisons. Un grand avantage de la chimie du plasma est le fait que des substrats sensibles à la température ne sont pas sollicités.