Радикалы

технологических газах, а также на субстратах, подвергаемых действию плазмы . Причина в первую очередь в ионизирующем действии УФ-излучения возбужденной плазмы. Это УФ-излучение расщепляет молекулярные связи, т.е. вырывает отдельные атомы или частицы молекулы. Отделенные частицы обладают незанятой связью, которую они хотят как можно скорее заполнить. По этой причине они очень активны – сразу реагируют с ближайшей частицей в окружении, подходящей для открытой связи. Такие отсоединенные частицы молекул с открытой связью называют радикалами, а открытое соединение – радикальным центром. При реакциях и присоединении радикалов могут возникать полимеры, при реакции радикалов технологического газа и субстрата возникают новые молекулы, переходящие в газовую фазу и оставляющие соответствующие незанятые места на субстрате. Так функционирует плазменное травление, а также плазменная очистка.