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Rivestimento CVD

Nel processo CVD, viene immessa nella camera di reazione una miscela di gas formata per reazione chimica dal solido ad alta temperatura, che condensa sul materiale di base sotto l'effetto catalitico della superficie del substrato. Esistono diverse varianti di questo processo; si distingue ad es. tra processi CVD termici e CVD attivato al plasma (PA-CVD). I tipi di reazione più significativi nel primo processo sono la chemiosintesi, la pirolisi e la disproporzione. Nel processo PA-CVD, le reazioni chimiche vengono attivate da un plasma. Oltre alla designazione PACVD, nella letteratura inglese esiste anche il termine PE-CVD (PECVD, plasma enhanced CVD, CVD potenziato al plasma).

Impianti di rivestimento CVD di Diener electronic

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