Recubrimiento por CVD

En el recubrimiento por CVD, se introduce en la cámara de reacción una mezcla de gas, que forma un sólido por reacción química a temperatura elevada y se deposita sobre el material de base por el efecto catalítico de la superficie del sustrato. Existen diversas variantes de este procedimiento; entre otras, se distingue entre procesos de CVD térmicos y CVD asistida por plasma (PACVD). En el primer procedimiento mencionado, los principales tipos de reacción son la quimiosíntesis, la pirólisis y la dismutación. En el proceso de PACVD, las reacciones químicas se activan con un plasma. Además del término PACVD, en la bibliografía anglosajona existe también el término PECVD (CVD mejorada por plasma).