CVD-Beschichtung

Beim CVD-Verfahren wird ein Gasgemisch in den Reaktionsraum eingeleitet, das durch eine chemische Reaktion bei erhöhter Temperatur den Feststoff bildet und sich unter der katalytischen Wirkung der Substratoberfläche auf dem Grundmaterial niederschlägt. Es existieren bei diesem Verfahren mehrere Varianten, man unterscheidet u.a. zwischen thermischen CVD Prozessen und Plasma-aktiviertem CVD (PA-CVD). Die wichtigsten Reaktionstypen beim erstgenannten Verfahren sind die Chemosynthese, die Pyrolyse und die Disproportionierung. Beim PA-CVD Prozess werden die chemischen Reaktionen durch ein Plasma aktiviert. Neben der Bezeichnung PACVD existiert in der englischen Literatur auch der Begriff PE-CVD (PECVD, plasma enhanced CVD).