Glosario de tecnología de superficies

Silicio

El silicio representa uno de los elementos más importantes, pero no a causa de la marcha triunfal de la microelectrónica, ni solamente desde entonces. La proporción de silicio en la masa total de la Tierra es del 15 %, aunque en la naturaleza solamente se encuentra en forma de compuesto; principalmente, como compuesto mineral, y, en concreto, como dióxido de silicio (SiO2). Se trata del componente principal en el granito, la arena y la piedra arenisca. El mineral SiO2 puro recibe el nombre de cuarzo. También puede tratarse en forma pura, como vidrio de cuarzo. En general, representa el componente principal de todos los vidrios. El número atómico del silicio es el 14, con lo que, en la tabla periódica, pertenece al grupo del carbono. Con sus 4 electrones de valencia, sus posibilidades de formación de compuestos y redes cristalinas son análogas a las del carbono. En su forma elemental, se trata de un semimetal o semiconductor, el más importante para aplicaciones comerciales. Resulta especialmente relevante su capacidad de formar monocristales de gran tamaño sin perturbaciones. La tecnología del plasma posibilita numerosos métodos de tratamiento de silicio; el que suscita mayor interés es la estructuración por grabado. Como gases de grabado, se usan ampliamente compuestos de flúor, como el hexafluoruro de azufre (SF6) o el tetrafluorometano (CF4). Asimismo, a través de procedimientos fotolitográficos, se incorporan pistas conductoras o recubrimientos de protección mediante polimerización por plasma.

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