Tetra 320R

Sistemas de plasma de baja presión (limpiador de plasma)

El sistema de producción Tetra 320R, con su cámara de 320 litros de volumen y control por PC, se utiliza en la fabricación en serie (limpieza, grabado y activación):

Datos técnicos

Armario eléctrico: An 870 mm, Al (con patas) 1860 mm, P 1400 mm

Cámara: ∅ 640 mm, P 1000 mm

Volumen de la cámara: aprox. 320 litros

Alimentación de gas: 2 canales de gas mediante MFC

Generador de tensión: 1 unidad (80 kHz/300 W)

Control: control por PC (Windows)

Alojamiento de piezas: a petición del cliente

Posibilidades del tratamiento con plasma

Limpieza de materiales

La tecnología del plasma ofrece soluciones para todos los tipos de contaminación, todos los sustratos y todos los tratamientos posteriores. También permite reducir los restos de contaminación a nivel molecular.

MÁS INFORMACIÓN SOBRE LA LIMPIEZA

Activación de materiales

Para la adhesión de ligandos durante las operaciones de lacado, pegado, impresión o unión por hilo, es necesario que la superficie presente una buena humectabilidad.

MÁS INFORMACIÓN SOBRE LA ACTIVACIÓN

Grabado de materiales

La tecnología del plasma permite el grabado anisotrópico e isotrópico. Grabado isotrópico por ataque químico, grabado anisotrópico por ataque físico.

MÁS INFORMACIÓN SOBRE EL GRABADO

Recubrimiento de materiales

El uso de plasmas de baja presión permite dotar de diversos recubrimientos a las piezas de trabajo. Para ello, se introducen en la cámara de vacío materiales de partida en estado gaseoso y líquido.

MÁS INFORMACIÓN SOBRE EL RECUBRIMIENTO

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