Radicaux

Des radicaux se forment dans des gaz de traitement moléculaires, mais aussi sur des substrats exposés au plasma. Ceci est dû en particulier à l'effet ionisant du rayonnement UV du plasma. Ce rayonnement UV coupe les liaisons moléculaires, c'est-à-dire qu'il coupe des atomes individuels ou des parties d'une molécule. Les deux parties séparées ont maintenant un lien inoccupé qu'elles veulent remplir le plus rapidement possible. Ils sont donc très réactifs, car ils réagissent immédiatement avec la particule suivante dans leur sphère d'influence, qui correspond à la liaison ouverte. Ces parties moléculaires séparées à liaison ouverte sont appelées radicaux, la liaison ouverte point radical. Suite aux réactions et enchaînements de radicaux, des polymères peuvent être générés, suite à la réaction de radicaux du gaz de traitement et du substrat, de nouvelles molécules sont créées et entrent en phase gazeuse, laissant ainsi des défauts correspondants sur le substrat. C'est ainsi que fonctionne la gravure plasma chimique ou aussi le nettoyage plasma.

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