Radicales

Surgen radicales tanto en gases de proceso moleculares como en sustratos expuestos al plasma. La causa principal radica en el efecto ionizante de la radiación UV del plasma. Dicha radiación UV divide enlaces moleculares en átomos individuales o fragmentos de molécula. Las dos partes resultantes de la separación cuentan ahora con un enlace no ocupado, que desean rellenar lo antes posible. Por lo tanto, son altamente reactivas, pues enseguida reaccionan con las partículas más cercanas de su zona de influencia que encajen en su enlace abierto. Dichas partes de moléculas separadas con enlace abierto se llaman radicales; el enlace abierto, posición de radical. Por medio de reacciones y concatenaciones de radicales, pueden crearse polímeros: la reacción entre radicales del gas del proceso y del sustrato provoca que aparezcan nuevas moléculas, que pasan a la fase gaseosa y dejan espacios libres en el sustrato. Así es como funciona el grabado con plasma químico, o incluso la limpieza con plasma.