Метод Physical Vapour Deposition (PVD-метод)

атомы , переходящие в газовую фазу. Физический метод осаждения из газовой фазы. Метод, который в отличие от химического метода осаждения из газовой фазы (Chemical Vapour Deposition CVD) обходится без химической реакции. Часто применяется для нанесения на металлы слоев твердых материалов. Напыляемый материал в большинстве случаев подвергается температурному испарению. Также напыляемый материал может быть переведен в газовую фазу путем ионно-плазменного распыления в плазме низкого давления . В этом процессе мишень, т.е. напыляемый материал, бомбардируется ионами, вырывающими атомы из мишени.