Technologie plasma basse pression

Un système plasma basse pression réunit les composants de base suivants :

• Récipient 
  avec système de commandeélectronique, brides pour l'alimentation en gaz, vannes, capteur de pression et, le cas échéant capteurs de mesure
• Générateur HF
• Pompe à vide
  le cas échéant pompes à vide secondaire et à vide élevé, filtres

Le récipient est un récipient sous pression étanche aux gaz. Pour éviter que des composants du récipient ne soient attaqués par l'effet du plasma, ils sont réalisés en acier inoxydable ou en verre de quartz de haute pureté. Ceci s'applique également aux composants dans le récipient : électrodes, supports de pièces, capteurs. Les autres composants du récipient sont la commande électronique de l'installation et tous les raccords de gaz et d'échappement.

Des générateurs HF dans la plage LF (40 kHz), la plage RF (13,56 MHz) et la plage micro-ondes (2,45 MHz) sont disponibles pour l'excitation plasma.

L'unité de pompes peut comprendre des pompes à vide secondaire et à vide élevé, des filtres, flexibles et capteurs de mesure.