Tecnologia del plasma a bassa pressione

Un impianto al plasma a bassa pressione è costituito dai seguenti componenti basilari:

recipiente

Il recipiente è un contenitore pressurizzato a tenuta di gas. Per evitare che i componenti del recipiente siano esposti all'effetto di acidatura del plasma, sono realizzati in acciaio inossidabile o in vetro di quarzo di elevata purezza. Lo stesso vale anche per i componenti del recipiente: elettrodi, supporti per pezzi di lavorazione, sensori. Il recipiente contiene inoltre il controllo elettronico dell’impianto e tutti gli attacchi di approvvigionamento e scarico di gas.

Generatore

Per l'eccitazione del plasma sono disponibili generatori HF di gamma LF (40 kHz), di gamma RF (13,56 MHz) e della gamma di microonde (2,45 GHz).

Pompa per vuoto

L'unità di pompaggio può includere pompe di supporto e ad alto vuoto, filtri, tubi flessibili e sensori di misura.

Video che illustra il principio della tecnologia del plasma a bassa pressione:

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