Tecnologia del plasma a bassa pressione

Un impianto al plasma a bassa pressione è costituito dai seguenti componenti basilari:

• recipiente 
  dotato di controllo elettronico, flange per l’alimentazione di gas, valvole, sensore di pressione ed ev. ulteriori sensori di misura
• generatore HF
• pompa per vuoto
  ed ev. pompe a monte e ad alto vuoto, filtri

Il recipiente è un contenitore pressurizzato a tenuta di gas. Per evitare che i componenti del recipiente siano esposti all'effetto di acidatura del plasma, sono realizzati in acciaio inossidabile o in vetro di quarzo di elevata purezza. Lo stesso vale anche per i componenti del recipiente: elettrodi, supporti per pezzi di lavorazione, sensori. Il recipiente contiene inoltre il controllo elettronico dell’impianto e tutti gli attacchi di approvvigionamento e scarico di gas.

Per l'eccitazione del plasma sono disponibili generatori HF di gamma LF (40 kHz), di gamma RF (13,56 MHz) e della gamma di microonde (2,45 GHz).

L'unità di pompaggio può includere pompe di supporto e ad alto vuoto, filtri, tubi flessibili e sensori di misura.