Flúor
El flúor es el elemento químico de número atómico 9, perteneciente al grupo de los halógenos. En su forma pura, se trata de un gas biatómico: F2. No obstante, en la naturaleza no está presente en forma pura, sino exclusivamente en combinación con otros elementos, sobre todo en forma mineral. El flúor es un elemento extremadamente reactivo. En consecuencia, por un lado, resulta sumamente tóxico porque, en el cuerpo, también reacciona con gran violencia, con lo que tiene un efecto muy nocivo. Por otro lado, muchos compuestos con flúor son extremadamente estables, de modo que apenas reaccionan con otras sustancias. Esto queda patente, por ejemplo, en la insolubilidad prácticamente completa del PTFE y otros compuestos de flúor, así como en la ausencia de reacción de gases como el tetrafluorometano (CF4) y el hexafluoruro de azufre (SF6), que son totalmente inertes. Los compuestos de flúor revisten importancia en la tecnología del plasma: Mientras que las sustancias antes mencionadas apenas reaccionan químicamente, sí lo hacen en el plasma, a través de la formación de radicales. La radiación UV también rompe enlaces de C y F.
De ello, surgen radicales de flúor, que provocan que el CF4 y el SF6 sean gases de grabado especialmente eficaces, sobre todo para el silicio: en esta operación, se forma fluoruro de silicio (SiF4). Otra consecuencia es la separación de radicales de flúor del PTFE, que reaccionan con radicales del plasma de hidrógeno para formar fluoruro de hidrógeno (HF). En el PTFE quedan posiciones de radicales, que aportan humectabilidad y adherencia al PTFE. Por otro lado, la polimerización por plasma de hidrocarburos fluorados permite generar capas similares a PTFE y, por lo tanto, recubrimientos superhidrófobos y epilamizados. En el plasma, es posible recubrir recipientes con capas de fluoruro, que forman capas de barrera contra la permeación de muchos líquidos, como, por ejemplo, la gasolina.
