Возбуждение плазмы

Высокочастотное возбуждение

Высокочастотными электрическими полями тоже может возбуждаться плазма . Чем выше частота возбуждения и ниже давление газа, тем легче и с меньшей энергией возбуждается плазма. В плазменной технике низкого давленияплазма возбуждается электромагнитными высокочастотными полями. Особенность:

1. В вакуумированной плазменной камере (реципиент) плазма может быть возбуждена почти в любом газообразном материале
2. Высокой частотой возбуждается холодная плазма

В плазменной технике для возбуждения используются выделенные ISM-частоты 40 кГц, 13,56 МГц или 2,45 ГГц.

Газовый разряд

Газовый разряд возникает при высоком напряжении в мощных электрических полях. Возбужденная газовым разрядом плазма присутствует:

• В молниях
• В газоразрядных лампах (неоновая трубка)
• В электрической дуге (коронный разряд)
• В атмосферных плазменных установках (Plasmabeam)