Низкотемпературная плазма

плазме газового разряда возникают очень высокие температуры. Причина заключается в мощности потерь из-за омического сопротивления и высокого протекания тока. При высокочастотном возбуждении в плазме низкого давления происходит лишь незначительное повышение температуры. Это обусловлено тем, что ионы из-за высокой инерции масс не могут следовать высокой частоте переменного поля, т.е. практически сохраняют свое молекулярное движение. Температура среды определяется энергией движения ее молекул и атомов , поэтому температура плазмы почти не отличается от температуры не возбужденного газа. Таким образом, температурная нагрузка в плазме низкого давления с высокочастотным возбуждением позволяет обрабатывать термочувствительные субстраты, включая почти все пластмассы. Сильно нагреваются в плазме низкого давления только электропроводящие субстраты. Причина в наведенных токах (как в микроволновой печи).