Plasma basse température

Des températures très élevées se produisent dans le plasma d'une décharge de gaz. Ceci est dû à la perte de puissance résultant de la résistance ohmique et du débit élevé du courant. L'excitation haute fréquence dans le plasma basse pression ne provoque qu'une augmentation minimale de la température. La raison est due au fait qu'à cause en de leur inertie de masse, les ions ne peuvent pas suivre la haute fréquence du champ alternatif et maintiennent pratiquement leur mouvement moléculaire. Vu que la température d'un agent est provoquée par l'énergie cinétique des molécules et atomes, la température du plasma n'est pratiquement pas supérieure à celle du gaz non excité. La sollicitation thermique dans le plasma basse pression avec excitation à haute fréquence permet donc également le traitement de substrats sensibles à la température, y compris pratiquement tous les plastiques. Seuls les substrats électriquement conducteurs sont fortement chauffés dans le plasma basse pression à cause des courants induits (comme dans un four à micro-ondes).

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