Глоссарий технологии обработки поверхностей
Контроль плазмы
плазмы по ходу процесса. Существуют два основополагающих метода:
- Спектроскопический контроль:
Плазма низкого давления светится типичным для технологического газа цветом, определяемым длиной волны электромагнитного излучения. По мере увеличения содержания остаточных газов цвет меняется. Таким образом, при спектроскопическом измерении регистрируются дополнительные длины волн (спектральные линии). Интенсивность излучения меняется вместе с давлением плазмы низкого давления.
Изменение спектра плазмы в ходе процесса из-за поступления продуктов реакции является нормой. Однако, необходимо контролировать, не ведут ли изменения к нарушению заданных допусков. - Измерение и контроль давления, потока газа, напряжения, времени и других параметров процесса.
