Monitoraggio del plasma

Per un controllo preciso di un processo al plasma, occorre monitorare lo stato del plasma durante il processo in corso. Sono disponibili due metodi principali:

  1. Monitoraggio spettroscopico:
    un plasma a bassa pressione emette un colore tipico del gas di processo , equivalente alla lunghezza d'onda della radiazione elettromagnetica. Il colore cambia con il progressivo aumento della percentuale di gas residui. Questo significa che, durante una misurazione spettroscopica, vengono rilevate ulteriori lunghezze d'onda (linee spettrali). L'intensità della radiazione varia in funzione della pressione del plasma a bassa pressione.
    Può accadere che lo spettro di un plasma si alteri durante il processo a causa dell'accumulo di prodotti di reazione nel plasma. Occorre tuttavia verificare che le modifiche rimangano entro le tolleranze specificate.
  2. Misura e controllo di pressione, flusso di gas, tensione, tempo e altri parametri di processo.

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