Lessico della tecnologia delle superfici

Ossigeno

Elemento chimico con il numero atomico 8, quindi bivalente. Molto reattivo, pertanto coinvolto in molti composti. Nella sua forma elementare si tratta di un gas molecolare (O2). Presente in piccole tracce anche come ozono (O3). L'ossigeno è l'elemento più frequente sulla crosta terrestre e costituisce il 21% dell'atmosfera terrestre. 

Anche nella tecnologia del plasma si tratta di un gas di processo molto importante, soprattutto nella pulizia al plasma e nella attivazione al plasma di materiali plastici.

+49 7458 99931-0

Contatti telefonicamente un esperto

info@plasma.com

Ci comunichi la sua richiesta

Richiedere un preventivo

Sa esattamente cosa le serve?