Lessico della tecnologia delle superfici
Ossigeno
Elemento chimico con il numero atomico 8, quindi bivalente. Molto reattivo, pertanto coinvolto in molti composti. Nella sua forma elementare si tratta di un gas molecolare (O2). Presente in piccole tracce anche come ozono (O3). L'ossigeno è l'elemento più frequente sulla crosta terrestre e costituisce il 21% dell'atmosfera terrestre.
Anche nella tecnologia del plasma si tratta di un gas di processo molto importante, soprattutto nella pulizia al plasma e nella attivazione al plasma di materiali plastici.
