LIGA

LIthographie, Galvanik, Abformung (литография, гальваника, слепки). Метод был разработан около 30 лет назад в центре ядерных исследований и используется для изготовления мельчайших структур и микромеханических компонентов. Минимальное расстояние между структурами составляет около 0,2 мкм, высота структур – до нескольких миллиметров. Достигается соотношение высоты к ширине структур (размерное соотношение) более 50. Метод применяется, например, в точной оптике и при изготовлении мельчайших механических деталей – таких как шестерни микромеханических передач. Детали могут быть выполнены из пластмасс, металлов и керамики. Различные этапы метода LIGA соответствуют методу фотолитографии, применяемому в изготовлении печатных плат .