
Glossaire de la technologie de surface
CDE Chemical Dry Etching
Gravure chimique sèche. CDE est une abréviation couramment utilisée pour le procédé de gravure chimique au plasma, également connu sous le nom de « gravure chimique » ou « gravure plasma ».La gravure chimique sèche s'effectue dans le plasma par réaction d'espèces actives ( atomes excités, radicaux, ions) avec les molécules du substrat. Le gaz de traitement doit être adapté au substrat (procédé de gravure sélective), le procédé de gravure n'est pas dirigé (isotrope).