Masque

Film ou revêtement structuré sur une surface ou un substrat. La structure du masque permet un traitement local du substrat. En microélectronique, des masques aux structures extrêmement fines sont principalement générés par photolithographie. En raison des percées dans la couche dephotoréserve,le substrat est spécialement traité par gravure ionique réactive (RIE). Le masque de photoréserve lui-même est retiré par gravure au plasma après structuration.