Glossaire de la technologie de surface

Hexafluorure de soufre

L'hexafluorure de soufre (SF6) est un gaz absolument inerte dans des conditions normales, qui génère cependant, en tant que gaz de traitement dans le plasma , des atomes de fluor hautement réactifs et des radicaux de fluorure de soufre et est donc l'un des gaz les plus agressifs du processus plasma (voir aussi tétrafluorométhane).

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