Graveur plasma tubulaire

Dans le cas de la gravure au plasma anisotrope, on obtient des taux de gravure élevés dans le réacteur tubulaire avec excitation HF dans une plage de MHz. C'est la raison pour laquelle les systèmes plasma utilisés principalement ou exclusivement pour la gravure au plasma, sont conçus de préférence sous la forme de réacteurs tubulaires. Les graveurs à plasma tubulaires sont utilisés, par exemple, lors de l'ashing de photoréserve. Pour de plus amples détails, voir ⇒ Réacteur tubulaire

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