Placage ionique

Méthode assistée par plasma pour le traitement de surfaces métalliques. Dans le placage ionique, la surface du substrat est d'abord nettoyée par bombardement ionique dans le plasma. La vapeur métallique est ensuite alimentée par une source d'évaporation, qui est partiellement ionisée dans le plasma et accélérée à la surface du substrat préchauffé par une polarisation négative. De cette façon, une couche de métal vaporisé se développe sur le substrat, tandis qu'une partie du substrat ou de la couche est enlevée (pulvérisée) à plusieurs reprises par le bombardement ionique. La structure de la couche qui en résulte dépend dans une large mesure de la température du substrat.