Plasmaätzen
Ätzverfahren
Oberflächenverbesserung
Sandstrahlen

用低压等离子体进行蚀刻

1.如何通过等离子体进行蚀刻?

进行等离子体蚀刻的时候,会使用能够将待蚀刻材料转换为气相工艺气体。含大量基料的气体会被抽走,并通入新的工艺气体。 这样便可以达到连续清除的目的。通过使用抗所用工艺气体的蚀刻掩模(例如,铬),可以对该区域施以保护。这样便可以针对性的勾勒表面。在纳米范围内进行这种勾勒处理。

应用用途组别材料气体类型压力 [mbar]功率 [%]时间 [min]
蚀刻金属CCl40,2 - 0,510030 - 120
BCl30,2 - 0,510030 - 120
NF30,1 - 0,410030 - 120
塑料POMO2 / O2+CF40,1 - 0,410030 - 120
PPSO20,1 - 0,410030 - 120
PTFEH20,2 - 0,510020 - 120
其他Al2O3Cl2+Ar0,1 - 0,610030 - 120
SiO2CF40,1 - 0,3100(含 RIE)30 - 120

在 RIE 模式下通过低频发生器或者高频发生器进行蚀刻

在 PE 模式下,用低频发生器或者 13.56 MHz 的发生器进行 PTFE 蚀刻

2.可以对金属进行蚀刻吗?

原则上是可以金属进行蚀刻的,当然必须使用高腐蚀性气体才可以,但是金属也会被其所腐蚀。为了增强蚀刻效果,可以对零部件进行预热处理 - 或者在等离子设备中安装了腔室型加热器的情况下 - 进行连续加热处理。

组别材料气体类型压力 [mbar]功率 [%]时间 [min]
金属

Ar

(溅射蚀刻)

0,2 - 0,510030 - 120
Ar0,1 - 0,410030 - 120
NF30,1 - 0,410030 - 120

包括功率和时间在内的工艺参数必须在考虑设备规格(发生器型号和强度、电极结构)和工件材料特性的前提下进行调节。

3.可以对哪些塑料进行蚀刻

主要是塑料表面可以用这种工艺方法进行蚀刻

对于诸如 POM、PPS PTFE 之类难以上漆粘合的塑料而言,蚀刻是非常重要的增加表面面积,可以获得更好的粘合附着性能

典型的蚀刻气体氧气、各种氟/氯气体化合物,还包括氢气

组别材料气体类型压力 [mbar]功率 [%]时间 [min]
塑料POMO2 / O2 + CF40,1 - 0,410030 - 120
PPSO20,1 - 0,410030 - 120
PTFEH20,2 - 0,510020 - 120

(包括功率和时间在内的工艺参数必须在考虑设备规格(发生器型号和强度、电极结构)和工件材料特性的前提下进行调节)。

POM 的蚀刻

4.可以对玻璃和陶瓷进行蚀刻吗?

在真空环境下对玻璃进行等离子蚀刻是极为费时昂贵的。通过电离气体粒子,只能缓慢的对玻璃进行降解。玻璃主要是由 SiO2 组成的,故此原则上可以用氟代烃(在添加氧气的情况下)对其进行蚀刻

由于腐蚀速率较低,从而导致工艺时间较长,这是这种工艺方法成本较高的主要原因。

陶瓷(例如: Al2O3)可以用腐蚀性非腐蚀性气体进行蚀刻

所有含氯和含氟气体均属于腐蚀性气体氩气属于非腐蚀性气体

通常而言,含氟气体腐蚀速率其他非腐蚀性气体更高,而含氯气体的蚀刻效果则比非腐蚀性气体更好

Al2O3最好用含氟气体进行蚀刻。

组别材料气体类型压力 [mbar]功率 [%]时间 [min]
其他Al2O3CF40,1 - 0,610030 - 120
SiO2CF40,1 - 0,3100(含 RIE)30 - 120

(包括功率和时间在内的工艺参数必须在考虑设备规格(发生器型号和强度、电极结构)和工件材料特性的前提下进行调节)。

5.可应用于哪些方面?

更多信息请参见章节“应用用途”