干式蚀刻

传统蚀刻方法基于通过会腐蚀表面材料(基材)的液体(蚀刻液、底漆)对表面进行材料剥蚀。这些液体都是根据基材选定的溶剂、碱或酸。这种蚀刻方法被称为湿化学蚀刻方法。大多数基材仅可通过对环境和健康有严重危害的蚀刻剂进行蚀刻.

低压等离子体中进行的蚀刻工艺方法不需要进行湿化学反应。所以,这种在等离子体中进行的蚀刻工艺方法被称为干式蚀刻。通常可以通过干式蚀刻对任何能想到的基材进行处理。

干式蚀刻这个术语涵盖了以下蚀刻方法

“干式蚀刻”这个术语涵盖了所有通过可以等离子作用进行的蚀刻工艺方法,“等离子蚀刻”这个术语则相反仅用于那些通过工艺气体的化学作用进行的蚀刻。可能会发生混淆。所以,最好用化学干式蚀刻或“Chemical Dry Etching”代替“等离子蚀刻”这个术语。

进行等离子蚀刻(最好是“化学干式蚀刻”或者“Chemical Dry Etching”)的时候,通过工艺气体的化学作用对基材进行蚀刻。