“目标”的英语表达方式。靶是指溅射时的离子轰击目标。通过物理蚀刻可以将原子和分子从靶中轰击出来,并转化为气相。这些粒子在采用 PVD 方法的时候会凝络在基材上,并在基材上形成涂层。

在氩气等离子体中进行离子蚀刻能够选择性的发挥作用。故此,使用这种方法几乎可以对任何一种基材进行加工处理。