溅射设备

一种专为溅射进行了优化和设置的等离子设备

溅射时,将工作电极和发生器偶联,但可以通过电容器进行电容分离。基材或与工作电极连接。溅射设备首选用频率为 13.56 MHz 的高频发生器运行。作为工艺气体,首选使用氩气

在这种设计的设备中,可以通过离子蚀刻对基材或靶进行材料剥蚀。

在氩气等离子体中进行离子蚀刻能够选择性的发挥作用。故此,使用这种方法几乎可以对任何一种基材进行加工处理。

PVD

 

进行溅射之后,还可以通过物理气相沉积(物理气相沉积 PVD)对基材进行涂层。

靶位于工作电极上,靶由可进行涂层处理的材料制成。

通过溅射从中轰击出来的原子和分子到达基材上,并在基材上自行凝聚。

如果采用 PVD 涂层方法,可通过溅射将靶的分子转化为气相。
氧气等离子体的特征性颜色