物理气相沉积 (PVD)

物理气相沉积方法。一种与化学气相沉积法(化学气相沉积 CVD)相反的气相沉积法,其不会发生化学反应。

通常用于对具有硬涂层的金属进行蒸镀。待气相喷镀的材料通常进行热蒸发处理。

此外,待气相喷镀的材料通过在低压等离子体中的溅射转化为汽相。期间,通过离子冲击“靶”(待气相喷镀的材料),原子从靶中被轰击出来。