CVD

化学气相沉积是一种涂层工艺,其通过化学反应使固态物质沉积在气态化合物组成的表面上。为了能够触发化学反应,必须将基材加热至较高的温度。并非每种基材均具有足够的耐热性。通过基材表面上方的等离子体激发化学反应可以减少或者甚至是避免基材的受热。这种工艺方法被称之为 PECVD(等离子体增强型化学气相沉积),也被称为 PACVD(等离子活化 CVD)。等离子 CVD 工艺的主要应用在于非晶态碳层和硅层以及氮化钛层、碳化钛或者氮化硅层。