四氟甲烷

四氟甲烷 CF4 相当于甲烷分子,其所有 4 个氢键均被氟取代。 
等离子工艺流程 中常用的 工艺气体,特别是对于蚀刻工艺流程。四氟甲烷(CF4,也被称为氟利昂 14)在正常条件下是完全惰性的,但在等离子体中会形成游离的氟原子和 CF2-自由基和 CF3-自由基。这些具有非常强的蚀刻作用,例如:在二氧化硅上。CF4 和 O2 混合物的蚀刻速度要比纯氧气快 5 倍左右。

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