Плазма низкого давления

Плазма низкого давления обеспечивает самые разнообразные возможности модификации поверхностей. Тонкая очистка загрязненных конструктивных элементов, плазменная активация пластмассовых деталей, травление ПТФЭ, кремния и  нанесение ПТФЭ-подобных покрытий на пластмассовые детали — это некоторые из возможных вариантов применения. Таким образом, плазма низкого давления применяется в самых различных областях, где необходимо соединять материалы или целенаправленно изменять свойства поверхностей.

В плазменном оборудовании низкого давления происходит возбуждение газа в вакууме посредством подачи энергии.Возникают богатые энергией ионы и электроны, а также другие реактивные частицы, формирующие плазму. Благодаря этому возможно эффективное изменение поверхностей. Различают три эффекта воздействия плазмы:

Микропескоструйная обработка: поверхность снимается с помощью ионной бомбардировки

Химическая реакция: ионизированный газ вступает в химическую реакцию с поверхностью

Ультрафиолетовое излучение: ультрафиолетовое излучение разрывает длинноцепные соединения углерода

Посредством изменения технологических параметров, таких как давление, мощность, продолжительность процесса, поток газа и состав газа, изменяется принцип действия плазмы. Таким образом в рамках одной единственной технологической операции можно достичь нескольких эффектов.