Plasmaanlage Nano Miete
Kleinanlage Nano UHP mit halbautomatischer Steuerung: Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung

Mietanlage NANO UHP

Die Kleinanlage NANO UHP mit ihren 18 Litern Kammervolumen und halbautomatischer Steuerung kommt vorwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz: 

  • Kleinserienfertigung
  • Analytik (REM, TEM)
  • Elektrotechnik
  • Medizintechnik
  • Kunststofftechnik
  • Elastomertechnik
  • Forschung und Entwicklung

UHP steht für Ultra High Purity. Diese Bezeichnung gilt für die Glasrezipienten unserer Plasmaanlagen. Diese können je nach Kundenwunsch aus Borosilikatglas oder Quarzglas sein. Die Option UHP isst nur für folgende Anlagen erhältlich: Femto, Pico und Nano.

Eingesetzt werden Glaskammern in Mikrowellenanlagen und/oder bei Anwendungen, bei denen eine ultrareine Oberfläche erforderlich ist. Normale Edelstahl- oder Aluminiumkammern können, wie alle Metalle, in einer Plasmaanlage, also auch das Behandlungsgut, in geringsten Mengen sputtern. Für die meisten Prozesse ist das nicht von Bedeutung und absolut vernachlässigbar. Die Aluminiumbauteile aus der UHP-Anlage sind mit AL2O3 beschichtet. Da die Anlage keinen Edelstahl-Rezipienten besitzt, ist sie für Anwendungen geeignet, bei denen Spuren von Chrom, Nickel und Eisen störend sind.

Technische Daten:

Schaltschrank:
B 580 mm, H 650 mm, T 600 mm

Kammer:
∅ 240 mm, L 400 mm
(optional: L 600 mm)
Kammeröffnung: ∅ 230 mm
Werkstoffe: Quarz oder Borosilikatglas
Vorder- und Rückwand der Kammer: Aluminium

Kammervolumen:
ca. 18 Liter

Gaszuführung:
2 Gaskanäle über Nadelventil

Generator:
40 kHz / 300 W, stufenlos
(optional: 13,56 MHz oder 2,45 GHz)

Vakuumpumpe:
Leybold, Typ D8B (8 m3/h)

Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger

Steuerung:
halbautomatisch, Prozesszeit über Timer

Optionen / Zubehör