PACVD (PECVD)

Nella deposizione di vapore chimico (CVD Chemical Vapour Deposition) si forma uno strato solido su una superficie del substrato in quanto le molecole reagiscono attraverso il calore del substrato. Nel CVD  assistito da plasma (PACVD), le radiazioni UV, a partire dalle molecole del gas di processo, generano dei radicali che reagiscono sulla superficie anche senza l'influenza della temperatura. Il processo PACVD, a differenza del processo CVD, è quindi adatto per piccoli supporti resistenti al calore. Invece di PACVD, viene usato il termine PECVD (CVD assistito da plasma).