Diossido di silicio

Reactive Ion Etching permette l'etching anisotropo con alti tassi di etching
Colore caratteristico del plasma di ossigeno

SiO2, connessione comune della crosta terrestre, duro e termoresistente, ottimo isolante. Molto frequente applicazione nella microelettronica come uno strato isolante, generalmente preparati mediante ossidazione di silicio puro. Possono mediante alone (in particolare fluoro) gas contenenti nel plasma per essere inciso, per cui il silicio sottostante è esposto di nuovo.