Femto système plasma basse pression (Nettoyage plasma)

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Les systèmes plasma Femto peuvent être configurés suivants vos besoins, il s’agit d’un système hautement modulaire. Le tableau suivant donne un aperçu des options les plus courantes admissibles par les systèmes plasma Femto. Les systèmes plasma Femto sont utilisés principalement dans les domaines suivants:

  • Analytique
  • Archéologie
  • Automobile
  • Départements de Recherche et Développement
  • Technologie des semi-conducteurs
  • Production en petites séries
  • Industrie plastique
  • Technologies médicales
  • Technologie Systèmes Micro EletroMécaniques (‘MEMS’)
  • Capteurs
  • Stérilisation
  • Industrie textile

Appelez-nous et nous nous ferons une joie de vous conseiller. Téléphone: +49 (0) 7458 - 999 31-0

 

Equipment de base

  • L’encombrement du système dépend des composants et options choisies.
  • Volumes de chambre : 1.9 - 6 litres, en fonction de la version
  • Puissance d’alimentation: 230 V pour les systèmes de table, 400 V/3-phase pour les systèmes autonomes.

Alimentation en gaz

  • Débitmètres à flotteur à vanne pointeau
  • Débitmètres massiques (‘Mass Flow Controller’ : MFC)

Chambre à vide (de traitement)

  • Acier Inoxydable, Cylindrique, Accès par couvercle (env. ∅ 100 mm, L 278 mm ou L 600 mm)
  • Acier Inoxydable, Parallélépipède rectangle, Accès par porte (env. Larg. 103 x Prof. 285 x Haut. 103)
  • Aluminium, cylindrique, Accès par couvercle ou porte   (env. ∅ 95 mm, L 280 mm ou L 600 mm)
  • Tube Quartz (UHP), Accès par couvercle ou porte (env. ∅ 95 mm, L 280 mm ou L 600 mm)
  • Tube de verre borosilicate (UHP), Accès par couvercle ou porte (env. ∅ 95 mm, L 280 mm ou L 600 mm)

Chargement - Portes substrats

  • Portes substrats (Option: refroidissement par circulation d'eau), Récipient "bateau" Quartz, Tambour rotatif pour poudres, Tambour rotatif pour pièces en vrac, Plaque aluminium, Plaque acier inoxydable, Verre borosilicate, Quartz.

Electrodes

  • Unique, ou sur multiple niveaux
  • RIE (‘Reactive Ion Etching’ ou Gravure Ionique Réactive)

Systèmes de Contrôle

  • Semi-automatique
  • Par PCCE (Microsoft Windows CE)
  • Par PC (Microsoft Windows POS Ready 2009)

Mesure de Pression

  • Sonde de pression type Pirani
  • Sonde de pression capacitive: Baratron (pour la version « gaz corrosifs »)

Minuteur

  • Digital

Générateurs

Fréquences:

40 kHz: Puissance 0 - 100 W; 0 - 1000 W

13.56 MHz; Puissance 0 - 50 W; 0 - 300 W

2.45 GHz: Puissance 0 - 100 W; 0 - 300 W

La puissance de chacun des générateurs est à chaque instant ajustable de 0 à 100%.

Pompes à vide

  • Plusieurs capacités de pompage et différents fabricants possibles (sur demande avec filtre à charbon actif)

Plus d’options

Pièces de rechanges, Jauge de pression, Options associées à la version "gaz corrosifs", bouteilles de gaz, Détendeur, Plaque chauffante, Affichage de la température, Chambre chauffante, Cage de Faraday, Accessoires pour plasma polymérisation, Encres de test, Générateur d'oxygène, Ventilation progressive, Pompage progressif, Bride porte-échantillon TEM, Contrats d’entretien/Services, Documentation fournie dans la langue du pays, Installation sur site incluant la formation. D'autres options sont disponibles sur demande.