Système Plasma d'occasion Nano pour Développement de procédés, Nettoyage, Activation et Gravure 'Etching' pour des batchs de taille modeste - Système Plasma.

Système plasma Nano, Occasion

Données techniques:

Armoire électrique (avec commande): Larg. 600 mm, Haut. 2000 mm, Prof. 800 mm Chambre:Tube Quartz (UHP). Accès: porte Dimensions approximatives : ∅ 240 mm, Prof. 390 mm

Volume de la chambre: Env. 24 litres Alimentation en gaz: 2 lignes de gaz, régulation par Débitmètres à flotteur à vanne pointeau12 lignes de gaz, régulation par débitmètre massique ('MFCs' Mass Flow controllers)

Générateurs: 1 unité (2.45 GHz, 0 - 1500 W) Contrôle - Asservissement Semi- automatique.