Undercutting

Dans le cas de la gravure de structures qui utilisent des masques, par exemple par des procédés photolithographie une copie exacte de la structure de masque est désirée.

On parle de undercutting (sans équivalent français) lorsqu'un défaut de gravure est observé: lorsqu'une attaque de l'espace interstitiel sous le masque à lieu, c'est le cas dans le cas de la gravure isotrope, tandis que la gravure anisotrope permet justement de s'affranchir de ce phénomène.

Ceci peut être réalisé par gravure ionique anisotrope, qui élimine seulement la matière dans la direction de l'impact d'ions. Cependant la gravure ionique est un processus assez lent. Tout autre processus de gravure tels une gravure par des solvants liquides, gravure sèche chimique mais aussi RIE Gravure Ionique Réactive - RIEconduisent de façon plus ou moins marquée à un "undercutting".

Tout processus de gravure qui n’est pas totalement anisotrope (unidirectionnel) provoque dans un certain degré de l’« undercutting ».