Gravure de Circuits Electroniques

Les pistes des cartes électroniques sont générés par Photolithographiephotolithographie. Les procédés plasma sont impliqués dans plusieurs étapes du processus de photolithographie.

La première étape est un revêtement complet de la carte de circuit par une couche métallique. La seconde, un revêtement complet du métal par une résine photorésistante. La résine subit une insolation UV suivant la structure des pistes électriques. Après développement, la résine demeure uniquement sur les futurs pistes du circuits.

Par gravure ionique réactive (Gravure Ionique Réactive - RIERIE) la surface métallique non protégée par la résine est éliminée.

Les restes de résines sont éliminées par gravure plasma avec un plasma oxygène.

La gravure plasma est impliquée dans la réalisation des pistes électriques des circuits électronique