Gaz de Procédé

Le gaz de procédé est le précurseur gazeux utilisé pour générer le plasma. Suivant la nature chimique du gaz de procédé utilisé, divers effets du plasma peuvent être obtenus. Par ailleurs, une large variété gaz de procédé peuvent et sont utilisés dans le cadre des traitements plasma. Dans le cas du plasma atmosphérique le choix du gaz de procédé se limite à ceux qui peuvent être utilisés en atmosphère libre. Dans le cas d'un plasma basse pression, généralement toutes les substances gazeuses peuvent être utilisées comme gaz de traitement, y compris les substances organiques (surtout) qui sont liquides à la pression atmosphérique, mais qui peuvent être vaporisés et se trouvent à l'état de gaz dans des conditions de basse pression.

Les gaz de procédés majoritairement utilisés sont: l’oxygène, l’hydrogène, l'azote, le Tétrafluorométhane, l'Argon, l'hexafluorure de soufre, des mélanges tels que l'air, ...

La couleur et l’intensité d’un plasma basse pression est un indicateur de la densité et de la pureté du plasma.