Dépôt (Plaquage) Ionique Réactif - Reactive Ion Plating "RIP"

Procédé de placage ionique assisté par plasma, se caractérise par l'introduction d'un gaz réactif dans la chambre plasma où il réagit avec le matériau évaporé. Le produit de réaction des vapeurs  et du gaz réactif est un revêtement solide se déposant sur le substrat.

Un exemple de dépôt obtenu et largement répandu est le nitrure de titane qui résulte de la réaction entre les vapeurs de titane et le gaz de procédé constitué d'azote.